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影響屏蔽效果的因素

一、資料的導(dǎo)電性和導(dǎo)磁性越好，屏蔽效能越高，但實(shí)際的金屬資料不可能兼顧這兩個(gè)方面。例如Cu導(dǎo)電性很好，但是導(dǎo)磁性很差；Fe導(dǎo)磁性很好，但是導(dǎo)電性較差。應(yīng)該使用什么資料，根據(jù)具體屏蔽主要依賴反射損耗、還是吸收損耗來(lái)決定是偏重導(dǎo)電性還是導(dǎo)磁性；另外還要考慮制造的成本問(wèn)題，一般能夠滿足使用要求就是適合的屏蔽材料。

二、頻率較低的時(shí)候，吸收損耗很小，反射損耗是屏蔽效能的主要機(jī)理，要盡量提高反射損耗。

三、反射損耗與輻射源的特性有關(guān)，對(duì)于電場(chǎng)輻射源，反射損耗很大；對(duì)于磁場(chǎng)輻射源，反射損耗很小。因此，對(duì)于磁場(chǎng)輻射源的屏蔽主要依靠資料的吸收損耗，應(yīng)該選用磁導(dǎo)率較高的資料做屏蔽材料。

四、反射損耗與屏蔽體到輻射源的距離有關(guān)，對(duì)于電場(chǎng)輻射源，距離越近，則反射損耗越大；對(duì)于磁場(chǎng)輻射源，距離越近，則反射損耗越小。正確判斷輻射源的性質(zhì)，決定它應(yīng)該靠近屏蔽體，還是原理屏蔽體，結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的一個(gè)重要內(nèi)容。

五、頻率較高時(shí)，吸收損耗是主要的屏蔽機(jī)理，這時(shí)與輻射源是電場(chǎng)輻射源還是磁場(chǎng)輻射源關(guān)系不大。

六、電場(chǎng)波是容易屏蔽的平面波，其次，磁場(chǎng)波是難屏蔽的，尤其是1KHz以下的低頻磁場(chǎng)，很難屏蔽。對(duì)于低頻磁場(chǎng)，要采用高導(dǎo)磁性材料，甚至采用高導(dǎo)電性資料和高導(dǎo)磁性資料復(fù)合起來(lái)的材料。